亚二磺酸

亚二磺酸

一．使用含有二磺酸系列产品的镀铬添加剂有优异的效果
1、不含氟元素，不含稀土，对阳极和镀件不镀部位不产生腐蚀作用。
2、阴极电流效率高，可达25～29%，节电一半左右。
3、光亮电流密度范围宽，可使用高达60安培/平方分米以上。
4、沉积速度快、节电、省工、省时、降低成本。
5、镀层结晶细致光亮，与基体结合力强；镀层硬度高，Hv硬度达1000以上。
6、镀层裂纹数高，可控制在400～1000条/厘米，因而提高产品的耐磨性和耐蚀性。
7、镀液覆盖能力强、深镀能力好、镀层均匀。
二．物理性质
英文名称：Methanedisulfonic Acid,Disodium Salt
分子式  ：NaSO3CH2SO3Na
分子量  ：220
含量    ：99%
性状    ：白色粉末
包装    ：25Kg/50Kg 加厚铁桶,内衬塑封袋
用途    ：医药中间体，**反应催化剂，表面处理剂，金属表面处理剂
三．基本配方：
请在每升镀铬溶液中加入以下成分:
二磺酸 :(纯度 99%):  4-6克／每升标准镀铬槽液
二磺酸消耗量: 每补加一公斤铬酐同时补加8-10克二磺酸
四．附录：标准镀铬工艺

	较佳	范围
铬酐（CrO3）	250g/L	200─300g/l
酸（H2SO4）	2.7g/L	2─4g/l
三价铬(Cr３+)	2.5g/L	2─5g/l
阴极电流密度	60A/dm２	30─80A/dm２
温度	60° C	55─70°C
阴阳极面积比	1:2	1:2-3
阳极	含6%铅合金板	含锡8─12%的铅锡合金板或含6%铅合金板

HCR-1高效无阳极腐蚀硬铬添加剂及镀铬工艺
一、前言
HCR-1高效无阳极腐蚀硬铬添加剂是我公司采用微波辐射连续生产技术合成的较新一代镀铬添加剂，它克服了酸催化剂和氟化物催化剂的许多不足之处，完全避免了阳极腐蚀，使镀铬工艺达到新的高度。该工艺适合于镀硬铬、微裂纹铬，也可用于镀装饰铬、乳白铬。
二、工艺特点 
1、不含氟元素，不含稀土，对阳极和镀件不镀部位不产生腐蚀作用。
2、阴极电流效率高，可达25～29%，节电一半左右。
3、光亮电流密度范围宽，可使用高达60安培/平方分米以上。
4、沉积速度快、节电、省工、省时、降低成本。
5、镀层结晶细致光亮，与基体结合力强；镀层硬度高，Hv硬度达1000以上。
6、镀层裂纹数高，可控制在400～1000条/厘米，因而提高产品的耐磨性和耐蚀性。
7、镀液覆盖能力强、深镀能力好、镀层均匀。
8、镀液稳定，添加剂消耗少，抗杂质性能强，易于操作维护。
三、配方和工艺条件
***将NCr配制成10%的水溶液。

项目	较佳	范围
铬酐（CrO３）   	250g/L   	200～300g/L
酸（H2SO4）  	2.7g/L     	2～4g/L
三价铬(Cr３＋)  	2.5g/L   	2～5g/L
HCR-1（开缸）	25ml/L  	15～30ml/L
阴极电流密度  	60A/dm	30～80A/ dm
温度 	60℃    	55～70℃  
阴阳极面积比	1：2～1：3
HCR-1补加量  	每补加一公斤铬酐同时补加40—80毫升HCR-1
添加量HCR-1与铬酐比例开缸：1 : 50-100  补加量1 : 30-50
    
 四、镀液配制
1、将镀槽洗净并加入镀槽体积2/3去离子水或蒸馏水,加热到50℃ 将所需铬酐溶解。
2、补加去离子水或蒸馏水至所需体积。
3、取样分析镀液中酸含量并调至工艺规定范围。
4、加入HCR-1高效无阳极腐蚀硬铬添加剂并搅均匀。
5、可适当加入铬雾抑制剂。
6、用10安/平方分米电流电解5～6 个小时，使镀液达平衡状态后便可开镀。
五、说明
1、阳极可用含6%铅合金板或含锡8─12%的铅锡合金板。
2、定期分析CrO３、H2SO4及Cr３＋的含量，并调整至工艺范围。
3、若使用周期换向电源，电流密度可进一步提高。
六、沉积速度参考数据
电流密度（安/平方分米）	沉积速度（微米/小时）

30	25～40
45	40～60
60	60～75
75	75～90